第七十四章 蚀刻机研制 (第1/5页)

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光刻机又名：掩模对准曝光机，常用的光刻机是掩膜对准光刻，是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术锻造，简单地说，光刻机就是把工程师的设计‘刻印’在基底材料-硅片上，在2—3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管。

光刻机‘刻印’处理过的硅片再经过蚀刻机加工，通过化学反应，物理撞击作用移除废弃‘硅片’上的废弃部分，再经历某些封装工艺，神奇硅片材料变废为宝，变成价值高昂的-电子芯片。

因为周兴的关系5纳米级蚀刻极量产可期，光刻机成为众人心中的重中之重，如果光刻机再有所突破，那么芯片领域会和高铁领域一样，突破西方国家封堵完成弯道超车。

“不过什么？有话快说，别卖关子。”严教授瞪着周兴，催促地问：

“光刻机我是有研究过，不过，暂时没别的想法。”周兴看了严教授一眼，淡淡地说：

闻言，在场众人面色一松，露出意料之中的神色，脸上又带了一丝遗憾，神色复杂。

5纳米级蚀刻机的量产工艺被周兴攻克，如果连光刻机也被周兴突破了，那他的研能力未免也太吓人了。

光刻机可比蚀刻机复杂多了，芯片的核心是光刻机，光刻机的核心是镜头，目前世界主流的光刻机还是深紫外侵入式光刻机，这个技术的极限是14纳米级以上，10纳米以下的光刻机则要用到极紫外光刻（EUV）技术，这项技术即使国外巨头都尚处于实验室向商业化展的阶段，鸿沟般的巨大差距不是轻易就能跨越的。