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要知道现在国内的半导体行业相较于全球最为领先的半导体行业要落后二十到三十年。
在别的厂商已经开始研发10纳米或者是更进一步的7纳米制程工艺的时候，国内的半导体行业还停步在128纳米的水平，
当然这几年国内还是有些半导体厂商奋起直追，使得一些领先的技术能够达到56纳米制程工艺，甚至开始向着24纳米制程工艺进发。
现在自己国家研发出来，能够量产的10纳米制程工艺的光刻机，可以说已经非常接近现在全球最为顶尖的水平。
从普遍128纳米水平提升到10纳米制程工艺，这样的跨度可谓是非常的巨大，要知道像外国的这种半导体行业的领导者可是花费了二十年的时间。
而现在华国可谓是采用了另外一种方式实现了弯道超车，一下子将工艺提升到了10纳米制程水平。
这让华国在科研技术方面拥有着更加强大的背后支持力。
“这件事暂时还是需要保密的，等到研发出7纳米光刻机再公开！”
由于光刻机的研发技术是目前华国最为重要的科研项目之一，自然而然在没有完全的研发处7纳米制成工艺的光刻机之前，暂时还是需要进行项目保密。